Twarz człowieka wydziela sebum, którego cienka warstwa towarzyszy nam przez cały czas. Na jego powierzchni nieustannie gromadzą się różnego rodzaju zabrudzenia, wśród których znajdują się np. bakterie, pot, kurz i nie tylko. Chcąc się przed tym uchronić, warto w odpowiedni sposób dbać o swoją twarz, systematycznie ją oczyszczając. Chociaż mogłoby się to pozornie trudne i absorbujące zajęcie, w praktyce nie jest ono skomplikowane i nie wymaga dużego nakładu czasu.
Kiedy oczyszczać skórę?
Skoro już wiemy, że o czystość twarzy należy dbać regularnie, warto zastanowić się, kiedy najlepiej przeprowadzać takie zabiegi? Powinniśmy o nich pamiętać za każdym razem, gdy zamierzamy wykorzystać jakikolwiek krem do twarzy lub wykonać makijaż.
Zabieg oczyszczania warto przeprowadzać również każdorazowo rano i wieczorem. Rano warto przygotować skórę na nałożenie kosmetyków, podczas gdy wieczorem usunąć wszelkie pozostałości tuszu do rzęs, podkładu, cieni oraz innych kosmetyków.
Jak przeprowadzić poprawne oczyszczanie twarzy?
Chcąc poprawnie zająć się pielęgnacja twarzy, warto najpierw zrozumieć cały proces oraz jego części składowe. Żeby w pełni zadbać o twarz, należy zarówno przeprowadzić demakijaż, jej mycie, jak i tonizację.
Cały proces należy rozpocząć od oczu. Przy pomocy płatka kosmetycznego nasączonego płynem micelarnym należy oczyścić powieki i rzęsy. Następnie przemyć okolice oczu, wykonując ruchy od zewnętrznego kącika do wewnątrz.
Gdy zakończymy zabiegi wykonywane wokół oczu przychodzi czas na oczyszczenie reszty twarzy, szyję i dekolt. W tym celu można wykorzystać mleczko, żel oraz piankę. Gdy substancja zostanie wmasowana w skórę, jej resztki warto zetrzeć przy pomocy wilgotnego płatka kosmetycznego oraz wytrzeć ręcznikiem.
Ostatni etap to tonizacja, która nawilża skórę, wyrównuje jej pH oraz działa kojąco.
W jaki sposób wybrać odpowiednie kosmetyki?
Środki, z których korzystamy, powinny być zawsze dostosowane do rodzaju naszej skóry. Innych będziemy stosować w przypadku skóry suchej, wrażliwej, tłustej czy mieszanej.